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一种横向纳米腔阵列结构SERS基底及其制备方法

项目品类:专利 信息类型:转让信息 参考价格:面议 项目状态:发布中 分享到:

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专利信息登记表(供给方)

专利名称

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一种横向纳米腔阵列结构SERS基底及其制备方法
专利类型 国内专利
申请号/专利号 CN201910265560.2
专利权人 合肥九州龙腾科技成果转化有限公司
申请日
授权日
公开(公告)号 CN110044866A
法律状态 已授权
行业分类 纳米材料
战略性新兴产业分类 其他高性能复合材料
意向价格 面议
权属人所属地域 安徽省-合肥市-市辖区
IPC分类 G01 测量、测试
专利类别 发明
是否有PCT 选项
合作方式 技术转让|技术服务|
专利摘要        本发明属于纳米复合材料技术领域,尤其涉及一种横向纳米腔阵列结构SERS基底,由内部设有一个中空腔体的半开放空心微球构成,其在水平方向上设置有一个横向开孔,所述的半开放空心微球其内层为表面修饰了4‑MBA探针分子的TiO2薄膜,在TiO2薄膜外部还镀有一层贵金属薄膜。其通过结合模板法制备而成,以等离子体清洗的聚苯乙烯小球阵列为支撑,将TiO2和贵金属经倾角磁控溅射的手段获得。本发明克服了现有技术中的SERS基底无法有效构建出电场强度相同而电流密度不同电学环境的缺陷,通过本发明可构建电场强度相同但电流密度不同电学环境,以此可用于研究等离子体诱导的电荷转移机制以及SERS物理增强与化学增强的中间态理论。                
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